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VTC-200P真空旋转涂膜机
产品描述
参数
1、引言
VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
2、主要技术指标
电源:AC220V 50Hz
功率:350W
真空度:MAX-0.08MPa
转速:500rpm-6000rpm
时间:1s-60s
尺寸:Ø250mm×290mm
重量:25kg
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VTC-100真空旋转涂膜机
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VTC-200真空旋转涂膜机
我们可根据用户的特殊制样要求设计开发金相制样设备,并为二汽集团、一汽轿车、中国有色金属研究院、中核集团等企业开发了金相切割机、金相研磨/抛光等专机,受到了用户的好评。
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